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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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crf等離子活化機(jī)清洗納米級(jí)芯片后,效果該如何評(píng)估

crf等離子活化機(jī)清洗納米級(jí)芯片后,效果該如何評(píng)估:
       水滴角檢測儀能評(píng)測等離子活化機(jī)前后清洗材料表面處理的差異。該設(shè)備是專業(yè)分析性儀器,使用蒸餾水作為檢測液,利用水表面張力的高靈敏度來評(píng)估固體材料界面張力或固體材料與水珠潤濕角。
       在半導(dǎo)體芯片行業(yè),尤其是晶圓制造過程中,對(duì)清凈度的要求很高,只有晶圓達(dá)到要求才能被認(rèn)為合格。水滴角測試儀作為plasma清洗效果評(píng)定的測試工具,是評(píng)定晶圓質(zhì)量的有效工具。近年來,中國的晶片工業(yè)發(fā)展很快,因此,對(duì)晶片滴角的檢測有了更高的要求。

等離子活化機(jī)

       依據(jù)水滴角測試的基本原理:固體樣品表面由于其本身存在的表面粗糙度、化學(xué)多樣性、異構(gòu)性等因素,經(jīng)過等離子活化機(jī)固體表面的接觸角值或水滴角表現(xiàn)為左右、前后和前后不一致;因此,水滴角測量儀器的算法必須采用符合界面化學(xué)原理的基本原理,并能實(shí)現(xiàn)一鍵快速測量。
應(yīng)用程序?qū)y試芯片半導(dǎo)體的技術(shù)要求:
       由于芯片納米級(jí)工藝,例如12或7納米工藝,其結(jié)構(gòu)和方向都是多種多樣的,因此,異構(gòu)性在芯片或晶片工藝中尤為突出。同時(shí),還要求水滴角測試儀具有拍攝、截圖、光學(xué)攝像等功能。
       水滴角度測量儀的適用物性要求能靈敏地捕捉微滴(盡量在1毫升以下,使用超細(xì)針頭)在小范圍內(nèi)的左右、前后因清洗效果不佳而產(chǎn)生的角度的微小變化。角的大小明顯地出現(xiàn)了左右角的偏移,說明試樣表面沒有經(jīng)過常壓等離子活化機(jī)清潔。
從整體上看,對(duì)晶片或晶圓加工而言,除測試等離子活化機(jī)(Plasma)的效果外,更重要的一點(diǎn)是要評(píng)估在什么情況下晶圓的粘附力或界面張力(尤其是后者)。

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