crf等離子清洗機的維護保養原理和方法都有哪些呢？
       隨著人們對等離子體清洗的了解越來越多，其應用也越來越廣泛，那crf等離子清洗機的維護保養原理和方法都有哪些呢？首先分析一下何為等離子體化學和物理反應。什么是等離子體的化學反應，化學反應中常用的氣體有氫(H2)、氧(O2)、甲烷(CF4)等。這些氣體在電漿中反應成高活性自由基，會進一步反應材料表面。其反應機制主要是利用等離子清洗機中的自由基與材料表面發生化學反應。當壓力較高時，更有利于自由基的產生。因此，如果我們想專注于化學反應，我們必須控制更高的壓力來近反應。等離子體的物理反應：主要是利用等離子體中的離子進行純物理沖擊，去除材料表面的原子或附著在材料表面的原子。由于離子在低壓下的平均自由基較輕，有能量積累，物理沖擊時離子能量越高，沖擊越多。因此，如果我們想專注于物理反應，我們必須控制更多的壓力進行反應，這樣清潔效果更好。由于半導體和光電材料在未來的快速增長，這方面的應用需求將越來越大。維護保養等離子清洗機，常言道，假如1個員工想把工作做好，他必須首先磨利他的工具。1個好的工具通常可以事半功倍。他還說：不管功夫有多高，他都怕菜刀。不管機器有多好，他都應該保養它。所以讓我們分享一些常見的維護保養事項：

1.定期檢查真空泵油：每月定期檢查真空泵的油位和油純度，觀察油位窗口。當油位接近最低紅線刻度時，將其添加到油紅線上下之間；觀察油的顏色。正常油干凈透明。當油渾濁（油顏色為灰褐色或油位窗口模糊）時，真空泵噪音異常，應及時更換真空油。
2.清潔反應腔室：首先，用無水乙醇(俗稱酒精)擦拭脫脂棉布(不要用乙醇擦拭反應腔觀察玻璃)。其次，腔體導入(氬+氧)或(氮+氧)，用等離子清洗機清除腔體內的殘留物。每月至少工作10分鐘一次。
3.檢查輸氣管道的完整性和真空密封性：定期檢查真空系統的完整性，應徹底清潔反應室，避免腔內污染物遺漏。定期檢查反應腔門密封條是否松動。檢查各管道是否連接緊固、老化。
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