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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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等離子表面處理作用OLED顯示板起到清洗、濺射和微蝕刻的成效

等離子表面處理作用OLED顯示板起到清洗、濺射和微蝕刻的成效:
       近年來(lái),OLED已成為國(guó)內(nèi)外非常受歡迎的新興平板顯示產(chǎn)品,這是因?yàn)镺LED顯示設(shè)備有著自發(fā)光、色域廣、視角廣、反應(yīng)時(shí)間短、發(fā)光效率高、工作電壓低、面板薄(厚度小于1mm,可制作大尺寸可燃曲面板,制作簡(jiǎn)單,成本低,被稱(chēng)為世紀(jì)明星平板顯示產(chǎn)品,與其它顯示技術(shù)相比有著很大的優(yōu)勢(shì)。隨著各種技術(shù)的突破和加工技術(shù)的成熟,它將迎來(lái)快速發(fā)展。

等離子表面處理

        等離子表面處理機(jī)主要用于OLED顯示器件生產(chǎn)過(guò)程中有機(jī)污染的清洗處理。plasma與材料表面的相互作用可產(chǎn)生3種基本現(xiàn)象:清洗、濺射和微蝕刻。基于這三種現(xiàn)象,可以去除材料和設(shè)備表面的污染,并在表面產(chǎn)生有著活化性能的懸掛按鈕,以提升表面活性。加熱主要是由電子和離子對(duì)材料表面的轟擊和等離子體的管轄權(quán)引起的。加熱效應(yīng)可以去除物理吸附或松散的污染。物理濺射是最常見(jiàn)的清潔方法。表面上的所有原子都可以去除,濺射過(guò)程中沒(méi)有選擇性,清洗可能伴隨著表面材料原子的去除,或者清洗結(jié)束時(shí)殘留有機(jī)分子。等離子表面處理濺射率取決于材料的表面性質(zhì)和污染物的類(lèi)型。蠟燭雕刻等離子表面處理是原子或自由基與表面污染分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程。其反應(yīng)產(chǎn)物通常具有一定揮發(fā)性,很容易從材料表面分離。

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