低溫等離子的歷史由來和參數介紹：
       低溫等離子清潔的運用始于20世紀初。伴隨著現代科學技術全產業鏈的迅速發展趨向，低溫等離子清潔適用于合金材料、半導體器件、氧化成分、有機化合物和絕大部分高分子化合物材料的多種材料類別，并可滿足多樣化構造的清潔。等離子清潔的過程中不用任何的有機化學溶液，具備污染小、清潔質量好的優勢。廣泛運用于半導體制造、微電子包裝、光學工業、機械航天工業、精密儀器等領域。

      低溫等離子是1種常見的固體、液體、氣體以外的第四種成分，主要由電子、正離子、自由基、光子等中性粒子組成，其正負電荷總是相等的，因此被稱為等離子。微波等離子由輸出功率為2.45GHz的微波激發工序氣體放電，在正負極磁場作用下的諧振腔內產生等離子。諧振腔位于反應倉旁邊，磁控管連接到微波發生器。由于整個放電的過程不需要正負電極，自偏壓極小，從根本上避免了靜電放電損傷。
       常用低溫等離子電源激發頻率有3種：四十kHz等離子為超聲等離子，物理反應；13.56mHz等離子為射頻等離子，物理化學反應；2.45gHz等離子為微波等離子，離子濃度最高，化學反應，典型工序為氧氣或氫等離子工序。通過化學反應，氧等離子可以將非揮發性有機化合物變成揮發性CO2和水蒸氣，去除污垢，清潔表面；氫等離子可以通過化學反應去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。