使用等離子活化機(jī)的哪些特性可以對(duì)半導(dǎo)體芯片、晶圓進(jìn)行清洗：
        crf等離子活化機(jī)是干式工業(yè)清洗的1種方式，近幾年微電子工業(yè)術(shù)的發(fā)展，plasma的優(yōu)勢(shì)越來(lái)越明顯。在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，晶片表面會(huì)有各種顆粒、金屬離子、有機(jī)物和殘留磨料顆粒。確保集成電路IC在不破壞芯片和其它材料的表面特性和電氣特性的情況下，必須清潔和去除芯片表面的這些有害污染雜質(zhì)。否則，它們將對(duì)芯片性能產(chǎn)生致命的影響和缺陷，降低產(chǎn)品合格率，并限制設(shè)備的進(jìn)一步開(kāi)發(fā)。目前，幾乎每個(gè)設(shè)備生產(chǎn)過(guò)程都有清潔步驟，其目的是去除芯片表面污染、雜質(zhì)，目前廣泛使用的物理和化學(xué)清潔方法可分為濕清潔和干清潔，特別是干清潔發(fā)展迅速，等離子活化機(jī)清潔優(yōu)勢(shì)明顯，在半導(dǎo)體設(shè)備和光電元件包裝領(lǐng)域。什么是等離子活化機(jī)清洗？

       等離子體是一部分電離氣體，由正離子、負(fù)離子、自由電子和其他帶電粒子以及不帶電的中性粒子組成，如刺激態(tài)分子和自由基。它被稱(chēng)為等離子體，因?yàn)樗恼?fù)電荷總是相等的。這也是另一種物質(zhì)存在的基本形式（第四種狀態(tài)）。
        一種新的形式必須有相應(yīng)的化學(xué)行為。由于電子、離子和自由基等活性粒子在等離子體中的存在，它本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)，可以分為物理或化學(xué)反應(yīng)。通過(guò)化學(xué)或物理處理工作部件（生產(chǎn)過(guò)程中的電子元件及其半成品、印刷電路板）表面，實(shí)現(xiàn)分子水平污漬，去除污漬（一般厚度為3nm～30nm），改善表面活性的過(guò)程稱(chēng)為等離子體清洗。其機(jī)制主要取決于等離子體中的活性粒子“活化作用”為了去除物體表面的污漬，無(wú)機(jī)氣體通常被刺激為等離子體，氣相物質(zhì)被吸附在固體表面，吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)產(chǎn)生產(chǎn)物分子，產(chǎn)物分子分析形成氣相，從表面分離反應(yīng)殘留物。
         誠(chéng)峰等離子活化機(jī)清洗的最大特點(diǎn)是金屬、半導(dǎo)體、氧化物、有機(jī)物和大多數(shù)聚合物材料也可以很好地處理。它只需要非常低的氣體流量，并且可以清潔整個(gè)、局部和復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。在等離子體清洗過(guò)程中，不使用化學(xué)溶劑，基本無(wú)污染物，有利于環(huán)境保護(hù)。此外，生產(chǎn)成本低，清洗均勻性好，重復(fù)性好，可控，易于批量生產(chǎn)。